则是超纯净水设备制造技术的一次革命，从此进入了一个无需再生化学品，而能生产出高达18MΩ·CM的超纯水，用于半导体、集成电路等行业。

　　第一级预处理系统：采用石英砂多介质过滤器，主要目的是去除源水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、悬浮物等颗粒在20 m以上对人体有害的物质，系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列操作。

　　但受放射源及仪器价格的限制，在内难以普及;催化质谱法间接测定硅，是一个很有前途的方法;经典的分光光度法，经改进仍可满足高纯水中硅分析的要求，是目前内最通用的测试有法;原子吸收光谱法灵敏、快速.已得到日益广泛的应用。

　　后处理部分主要是对反渗透主机制取的纯水作进一步的处理，如果后续工艺接离子交换或电去离子(EDI)设备，则可以制取工业用超纯水，如果是用在民用直饮水工艺上，则常常接后置杀菌装置，例如可以接紫外线杀菌灯或者臭氧发生器，从而使出来的水可以直接饮用。