品名 | 多晶硅 | 牌号 | Si1 |
产地 | 福建 | 硅含量≥ | 详情 |
杂质含量 | 重量 |
硅靶材是一种具有高附加值的特种电子材料,主要使用在微电子、显示器、存储器以及光学镀膜等产业上,用以溅射用于尖端技术的各种薄膜材料。光学镀膜产业由于使用靶材在大面积的镀膜玻璃上,无疑是最大的应用市场,其次则为微电子产业,而其对靶材和溅射薄膜的品质要求是最苛刻的。
本公司采用铸造法生产多晶硅靶材,产品纯度高、电阻率低,无裂纹,并能满足客户对不同形状和尺寸的需求。产品采用超声波清洗,真空包装。
硅靶材技术指标:
生产工艺:铸造法
类型: 多晶
纯度: ≥99.999%
相对密度:2.33g/cm3
电阻率:≤0.2ohm/cm
尺寸:按需切割
厂家直销 0591 83782231